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q=%2BAndreas%2BErdmann&searchType=standard&isFacet=true&view=standard&searchWay=author&rows=10&sortWay=score&sortOrder=desc&searchWay0=marc&logical0=AND
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+Andreas+Erdmann
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著者
andreas erdmann
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(德) 安迪·爱德曼著
(1)
an asml company
(1)
editors ; sponsored by spie ; cosponsored by cymer
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erdmann, andreas
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kafai lai, andreas erdmann, editors ; sponsored by spie ; cosponsored by cymer, an asml company
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lai, kafai
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spie (society)
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徐东波
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爱德曼
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诸波尔
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高伟民
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高伟民, 徐东波, 诸波尔译
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出版日期
2014
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2023
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语言种类
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封面仅供参考
Optical microlithography XXVII：25-27 February 2014
订购中
著者:
Kafai Lai
Andreas Erdmann
editors ; sponsored by SPIE ; cosponsored by Cymer
an ASML company
出版社:
SPIE
出版日期: 2014
文献类型:
图书 , 索书号:
TN41/5
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2.
封面仅供参考
光学光刻和极紫外光刻
订购中
著者:
(德) 安迪·爱德曼著
出版社:
上海科学技术出版社
出版日期: 2023.01
文献类型:
图书 , 索书号:
TN305.7/4
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